干膜前处理ES170 特点:
1、溶铜量大、无副产物、蚀刻速率稳定
2、低的蚀刻速率(仅蚀铜0.8-1.5μ)优先攻击晶界部分的铜,在铜表面创造出均匀的“一级和二级”粗糙形态,为铜和有机材料的粘结提供理想的键合表面。
3、ES170的促进剂能够改变铜表面,可以得到均匀的微蚀铜面的粗糙度,同时也可以确保微蚀后链接力的可信度,具有稳定而易操作的特点;
4、微蚀面平整、均匀,结合力好,仅除去极小量的铜。
5、对超精细线路板技术处理效果十分优越。
6、对处理薄板材(特别是干、湿膜前处理)十分适用。
7、废液处理简单,既可喷淋也可浸泡,对设备无特殊要求。
阻焊前处理SES177 特点
1、硫酸双氧水体系,溶铜量大,可高达45g/L、蚀刻速率稳定
2、优先攻击晶界部分的铜,在铜表面创造出均匀的超级粗糙形态,为铜和阻焊等有机材料的粘结提供理想的键合表面。
3、SES177的促进剂能够改变铜表面确保微蚀后链接力的可信度,具有稳定而易操作的特点;
4、均匀粗化的有机金属表面特性;
5、对超精细线路板技术处理效果十分优越,无线路发亮问题;
6、优良的结合力,避免阻焊在沉锡、沉镍金过程中掉油的问题;
7、废液处理简单,既可喷淋也可浸泡,对设备无特殊要求。
HDI应用减铜剂ES175
减铜剂175是硫酸—双氧水类微蚀液用的添加剂,用于处理印刷电路板的铜表面,特别适合于溶解大量铜的蚀刻。
主要特点:
1、仅需消费少量的双氧水便能蚀刻铜;与以前的硫酸—双氧水类微蚀液相比较,仅需消费少量的双氧水便能溶解铜。
2、双氧水的稳定性出色。
因为双氧水的稳定性出色,所以无需进行多余的双氧水分解。
3、易于控制蚀刻量。
与利用氯化铁和氯化铜的蚀刻相比较,易于控制微小的蚀刻量。
4、适用于HDI制作过程中的减铜蚀刻。